南大光电：三款ArF光刻胶验证通过，树脂等原料自研。

中国在集成电路晶圆生产的关键材料——光刻胶上，南大光电(300346)近期取得了显著进步，引起了众多机构的联合调研。南大光电强调其在光刻胶技术研发上的自主性，从原材料到成品都能自主研发，包括功能单体、功能树脂和光敏剂等，实现了从源头到终端产品的完整自主生产链。
光刻胶作为光刻工艺的核心材料，技术门槛极高，全球市场高度集中，主要由日本和美国公司主导。特别是高端光刻胶市场，国际寡头垄断明显，这使得中国发展光刻胶面临挑战。南大光电透露，他们研发的部分ArF光刻胶已在国内主要芯片制造商进行验证，部分产品已小规模销售并保持稳定质量，但量产时间取决于客户订单。
半导体光刻胶中，ArF和KrF占据主导地位，我国的需求也与全球趋势同步，但国产化率相对较低。鉴于高端光刻胶保质期短，国产化和产业化显得尤为关键，以降低对外部供应链的依赖，保障产业安全。
在光刻胶原材料方面，南大光电自主研发重要单体和树脂，对于其他可稳定供应的材料则采取外部采购策略，优化内部资源。此外，南大光电还是国内半导体前驱体材料的重要供应商，掌握了核心技术，打破了国际垄断，其前驱体业务已覆盖多个关键品类，并在2023年实现显著业绩增长。
未来，南大光电将继续推动光刻胶和前驱体业务的发展，通过产品线扩展和深化与关键客户的合作，有望成为业绩增长的重要驱动力。国产替代的趋势下，南大光电的发展前景备受瞩目。