ASML和比利时研发企业Imec开设了一个实验室，让芯片制造商能够获得最新的High NA EUV光刻设备和相关工具，以加快他们下一代产品的开发.
这家荷兰科技巨头表示，该公司总部所在的Veldhoven联合光刻实验室的开设，标志着准备High NA EUV用于大规模制造工艺的里程碑.
ASML表示，作为计划的一部分，该实验室将使参与半导体制造的公司能够获得High NA EUV扫描仪(TWINSCAN EXE：5000)以及相关的加工和计量工具.
这将包括逻辑和存储芯片制造商，以及先进的材料和设备供应商.
当然，这不是一种慈善姿态.
ASML Imec High NA EUV光刻实验室为我们的EUV客户、合作伙伴和供应商提供了访问High NA EUV系统进行工艺开发的机会，同时等待他们自己的系统在他们的工厂可用.
总裁兼首席执行官Christophe Fucket在一份声明中说：“ASML Imec High NA EUV光刻实验室为我们的EUV客户、合作伙伴和供应商提供了一个访问High NA EUV系统进行工艺开发的机会，同时等待他们自己的系统在工厂可用.
这种与生态系统非常早期的接触是独一无二的，可以显著加速技术的学习曲线，并顺利引入制造.
我们致力于与我们的客户合作，并利用High NA EUV在这一旅程中提供支持.
“据ASML称，High NA EUV光刻被视为缩小半导体特征的下一步.
Imec总裁兼首席执行官吕克·范登霍夫表示，新的芯片套件能够打印出比以前小1.
7倍的晶体管，达到2.
9倍的晶体管密度.
Imec或大学间微电子中心将High NA EUV视为“光学光刻的下一个里程碑”，有望以20 nm的间距标出金属线或间距，这最终将使下一代DRAM芯片成为可能.
Imec总裁兼首席执行官吕克·范登霍夫表示，与现有的多图案EUV方案相比，这将提高产量，缩短周期，甚至可能减少二氧化碳排放，将摩尔定律很好地推向了óngström时代.
Van den Hove补充道：“High NA EUV光刻实验室将作为我们在鲁汶300 mm洁净室的虚拟延伸，使我们能够进一步改善图形生态系统，并将High NA EUV的分辨率推向极限.
”今年早些时候，英特尔在其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂收到了第一台生产High NA EUV的机器，用于即将到来的14A工艺节点.
至少还有一台机器也已经发货，但不知道是谁收到了它，尽管有消息来源称，英特尔已经购买了ASML今年将生产的所有机器.®.